可以曝光多少nm芯片

目前我国已经投入量产的最先进光刻机是90纳米光刻机，虽然28纳米光刻机已经实现了技术上的突破，但目前还处于测试阶段，因为良品率相对比较低，并没有投入量产当中。对此有些网友可能就产生一些大胆的想法，我们能不能使用纯国产90纳米光刻机来制造14纳米的芯片呢？首先可以肯定地告诉大家答案，不可能。可能有些朋友会说，用90纳米光刻机经过工艺上的改进以及多次曝光之后生产